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 真空鍍膜是指在高真空條件下，通過加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結在鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面形成薄膜的方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面。它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子體束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的新技術。簡而言之，在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以固化并沉積在涂覆物體(稱為基材、基材或基底)上的方法稱為真空涂覆。