半導體職業是一個高能耗的職業。在半導體產品制作過程中，由于出產設備的精密性和出產工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質會進入硅片，如帶入過量的雜質，就會導致器件功能下降、影響產品功能。因而，制備高品質的超純水已成為發展大規模集成電路的重要前提技能。

超純水既將水中的導電介質簡直徹底去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。這種水中除了水分子外，簡直沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是簡直去除氧和氫以外所有原子的水。電阻率大于18M Ω*cm，或接近18.3M Ω*cm極限值(25℃)。

超純水設備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質純潔了，才能保證每一步的正常運轉。超純水設備為芯片制作保駕護航。傳統超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設備選用超純水設備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產超純水，以保證出水水質符合職業標準，滿足芯片職業用水需求，成果英勇的“芯”。