跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開展，對清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對超純水有極其嚴厲的水質(zhì)要求?，F(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導(dǎo)體的性能。

　超純水是為了研制超純資料(半導(dǎo)體原件資料、納米精密陶瓷資料等)運用蒸餾、去離子化、反滲透技能或其它適當?shù)某R界精密技能出產(chǎn)出來的水，不宜飲用。 　　這樣的水是一般工藝很難到達的程度，應(yīng)該運用超純水設(shè)備進行制備。專業(yè)的超純水設(shè)備由預(yù)處理(多介質(zhì)過濾+超濾設(shè)備)體系+反滲透體系+EDI電除鹽體系+拋光混床體系組成，保證出水水質(zhì)滿足18.2MΩ·cm電子級水產(chǎn)水指標。

超純水設(shè)備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質(zhì)純潔了，才能保證每一步的正常運轉(zhuǎn)。超純水設(shè)備為芯片制作保駕護航。傳統(tǒng)超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設(shè)備選用超純水設(shè)備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產(chǎn)超純水，以保證出水水質(zhì)符合職業(yè)標準，滿足芯片職業(yè)用水需求，成果英勇的“芯”。