污水處理是環(huán)保水務板塊中的重要部分，是指經(jīng)過專業(yè)處理手段去除或下降不同類型污水中的固體污染物及有機污染物，令被凈化的水質(zhì)可以到達再次運用或排放要求的過程。污水按來歷可分為出產(chǎn)污水、日子污水及被污染的雨水。 　　出產(chǎn)污水可分為工業(yè)污水、農(nóng)業(yè)污水及醫(yī)療污水，其中以工業(yè)污水為主。現(xiàn)在出產(chǎn)污水中的工業(yè)污水和日子污水處理為污水處理職業(yè)重點處理目標。 　　雖然近年來工業(yè)廢水排放量有所下降，但總量依舊很高，廢水排放量坐落前4位的職業(yè)依次為造紙和紙制品業(yè)、化學原料及化學制品制作業(yè)、紡織業(yè)、煤炭挖掘和洗選業(yè)，4個職業(yè)的廢水排放量為88億噸，占工業(yè)企業(yè)廢水排放總量的47.1%。

跟著半導體工業(yè)的不斷開展，對清潔水的電導率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴厲。由于超純水在許多指標上對半導體的要求很高，因而半導體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導體職業(yè)對超純水有極其嚴厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標。 　　在半導體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應充分考慮硼的去除。硼離美標中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達較低的指標，則必然會進步半導體的性能。

　半導體職業(yè)是一個高能耗的職業(yè)。在半導體產(chǎn)品制作過程中，由于出產(chǎn)設備的精密性和出產(chǎn)工藝的復雜性，對其配套設施提出了很高的要求，尤其對超純水體系的運用要求更高。 　　在半導體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進行化學處理，而化學處理又與超純水有關水中的雜質(zhì)會進入硅片，如帶入過量的雜質(zhì)，就會導致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。