今后，廢水處理技能水平將不斷進(jìn)步，在出水水質(zhì)、出資成本、運(yùn)轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢(shì)，在污水再生回用方面具有更多的運(yùn)用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過(guò)8個(gè)首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開(kāi)晶圓并用超純水清洗剩余碎片。或許，在離子注入過(guò)程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開(kāi)。

跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開(kāi)展，對(duì)清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來(lái)越嚴(yán)厲。由于超純水在許多指標(biāo)上對(duì)半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對(duì)超純水有極其嚴(yán)厲的水質(zhì)要求。現(xiàn)在，我國(guó)常用的超純水規(guī)范有國(guó)家規(guī)范《電子級(jí)水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過(guò)程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過(guò)量會(huì)使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達(dá)較低的指標(biāo)，則必然會(huì)進(jìn)步半導(dǎo)體的性能。

　半導(dǎo)體職業(yè)是一個(gè)高能耗的職業(yè)。在半導(dǎo)體產(chǎn)品制作過(guò)程中，由于出產(chǎn)設(shè)備的精密性和出產(chǎn)工藝的復(fù)雜性，對(duì)其配套設(shè)施提出了很高的要求，尤其對(duì)超純水體系的運(yùn)用要求更高。 　　在半導(dǎo)體制作工藝中，50%以上的工序中硅片與超純水直接接觸、80%以上的工序需求進(jìn)行化學(xué)處理，而化學(xué)處理又與超純水有關(guān)水中的雜質(zhì)會(huì)進(jìn)入硅片，如帶入過(guò)量的雜質(zhì)，就會(huì)導(dǎo)致器件功能下降、影響產(chǎn)品功能。因而，制備高品質(zhì)的超純水已成為發(fā)展大規(guī)模集成電路的重要前提技能。