今后，廢水處理技能水平將不斷進(jìn)步，在出水水質(zhì)、出資成本、運轉(zhuǎn)辦理、適用性等方面將有更多優(yōu)勢，在污水再生回用方面具有更多的運用空間。 　半導(dǎo)體的出產(chǎn)需求經(jīng)過8個首要工序。超純水首要用于半導(dǎo)體制作中某些工序前后的清洗。例如，在蝕刻工藝之后，切開晶圓并用超純水清洗剩余碎片?；蛟S，在離子注入過程之后，清潔剩余離子。此外，超純水還可用于晶圓拋光或晶圓切開。

跟著半導(dǎo)體工業(yè)的不斷開展，對清潔水的電導(dǎo)率、離子含量、TOC、do和顆粒物的要求越來越嚴(yán)厲。由于超純水在許多指標(biāo)上對半導(dǎo)體的要求很高，因而半導(dǎo)體職業(yè)的超純水與其他職業(yè)的用水要求不同。半導(dǎo)體職業(yè)對超純水有極其嚴(yán)厲的水質(zhì)要求?，F(xiàn)在，我國常用的超純水規(guī)范有國家規(guī)范《電子級水》(GB/T 11446.1-2013)和美標(biāo)。 　　在半導(dǎo)體出產(chǎn)過程中，硼是一種p型雜質(zhì)。過量會使n型硅反轉(zhuǎn)，然后影響電子和空穴的濃度。因而，在超純水工業(yè)中應(yīng)充分考慮硼的去除。硼離美標(biāo)中e1.3中要求小于0.05。假如硼離子含量可以到達(dá)較低的指標(biāo)，則必然會進(jìn)步半導(dǎo)體的性能。

超純水設(shè)備成果英勇的“芯” 　　芯片制作的每一道工序都離不開超純水，只要水質(zhì)純潔了，才能保證每一步的正常運轉(zhuǎn)。超純水設(shè)備為芯片制作保駕護(hù)航。傳統(tǒng)超純水制備工藝一般運用離子交換樹脂，但離子交換樹脂的運用一般需求定期的樹脂再生，這既耗費材料又耗費人力。超純水設(shè)備選用超純水設(shè)備選用反滲透工藝，或選用反滲透后離子交換混床、電去離子EDI工藝或拋光混床出產(chǎn)超純水，以保證出水水質(zhì)符合職業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，滿足芯片職業(yè)用水需求，成果英勇的“芯”。